Головна Головна -> Реферати українською -> Дисертації та автореферати -> Динаміка системи плазма-поверхня у розрядах магнетронного типу

Динаміка системи плазма-поверхня у розрядах магнетронного типу

Назва:
Динаміка системи плазма-поверхня у розрядах магнетронного типу
Тип:
Реферат
Мова:
Українська
Розмiр:
16,60 KB
Завантажень:
425
Оцінка:
 
поточна оцінка 5.0


Скачати цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10 
ХАРКІВСЬКИЙ НАЦІОНАЛЬНИЙ УНІВЕРСИТЕТ
ІМ. В.Н. КАРАЗІНА
Алімов Святослав Сергійович
УДК 537.525:539.23
Динаміка системи плазма-поверхня
у розрядах магнетронного типу
01.04.08 - фізика плазми
АВТОРЕФЕРАТ
дисертації на здобуття наукового ступеня
кандидата фізико-математичних наук
Харків – 2003


Дисертацією є рукопис.
Робота виконана в Харківському національному університеті
ім. В.Н. Каразіна Міністерства освіти і науки України.
Науковий керівник: кандидат фізико-математичних наук, доцент,
Бобков Валентин Васильович, Харківський національний університет ім. В.Н. Каразіна, доцент кафедри фізичних технологій.
Офіційні опоненти: доктор фізико-математичних наук,
Хороших Володимир Максимович, Інститут фізики твердого тіла Національного наукового центру "Харківський фізико-технічний інститут", начальник лабораторії;
кандидат фізико-математичних наук, доцент
Гордієнко Ігор Ярославович, Українська інженерно-педагогічна академія, доцент кафедри загальної та прикладної фізики.
Провідна установа: Інститут фізики НАН України, відділ газової електроніки, м. Київ
Захист відбудеться “23” травня 2003р. о 15 годині на засіданні спеці-алізованої вченої ради Д 64.051.12 в Харківському національному університеті ім. В.Н. Каразіна, за адресою: 61108, м. Харків, пр. Курчатова 31, читальний зал бібліотеки №5.
З дисертацією можна ознайомитись у Центральній науковій бібліотеці Харківського національного університету ім. В.Н. Каразіна за адресою: 61077, м. Харків, майдан Свободи, 4.
Автореферат розісланий 21.04.2003р.
Вчений секретар
Спеціалізованої вченої ради _________________ Письменецький С.О.


ЗАГАЛЬНА ХАРАКТЕРИСТИКА РОБОТИ
Актуальність теми. Розпилювальні системи на основі магнетронного розряду (МРС) успішно використовуються як для осадження покриттів, так і для травлення мікроструктур. Перспективним напрямком є застосування МРС, що забезпечують обробку поверхні на мікро- та нанорівні, для синтезу нанокомпозитних структур і матеріалів. Науковий інтерес до цих матеріалів нового покоління пов’язаний з очікуванням різноманітних розмірних ефектів на наночастинках і наноструктурах з масштабом порядку чи менше характерного розміру певного фізичного явища. Керування фундаментальними властивостями твердих тіл шляхом синтезування в їх об’ємі нанорозмірних включень, становить одну з головних проблем провідних наукових центрів у галузі нанотехнологій.
Для з’ясування фізичної картини процесів, які мають відбуватися при створенні нанокомпозитних матеріалів за допомогою вакуум-плазмових методів, оптимальним рішенням є попереднє моделювання та вивчення процесів взаємодії у системі плазма-поверхня з дисперсними матеріалами, які мають на кілька порядків більші розміри.
Використання МРС для створення нанокомпозитних структур на базі тонких плівок і матеріалів високого ступеня дисперсності вимагає додаткових досліджень взаємозв’язку між процесами у системі плазма-поверхня та основними технологічними параметрами розряду. Найменш дослідженими у цій системі є динамічні процеси, що відбуваються впродовж перехідного періоду: від моменту ініціювання розряду до встановлення стаціонарних параметрів плазми і динамічної рівноваги властивостей поверхні. Протягом цього часового інтервалу відбувається розпилення хімічних сполук з поверхні, існування яких пов’язане з попередньою історією її підготовки, тобто механічною обробкою, перебуванням на повітрі при атмосферному тиску, покриттям поверхні хемо- і адсорбованими сполуками тощо.
Значний вклад у зміну характеристик розряду вносить модифікація мікротопографії поверхні катоду аж до моменту, коли загальні характеристики рельєфу стабілізуються. Присутність неоднорідностей на поверхні катоду МРС, особливо в умовах високої швидкості розпилення, є негативним фактором при осадженні покриттів. З іншого боку, контрольоване утворення конусоподібних мікровиступів дає можливість суттєво змінити емісійні властивості поверхні та швидкість розпилення мішені, локально трансформувати механізм перенесення носіїв заряду поблизу поверхні катоду.

Завантажити цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10 



Реферат на тему: Динаміка системи плазма-поверхня у розрядах магнетронного типу

BR.com.ua © 1999-2017 | Реклама на сайті | Умови використання | Зворотній зв'язок