Головна Головна -> Реферати українською -> Дисертації та автореферати -> Безкоштовно реферат на тему: ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ

ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ / сторінка 11

Назва:
ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ
Тип:
Реферат
Мова:
Українська
Розмiр:
18,74 KB
Завантажень:
178
Оцінка:
 
поточна оцінка 5.0


Скачати цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12  13  14 
Відпал у вакуумі при 1070 К приводить до значного збільшення кількості кінцевого силіциду CoSi2.
6. Визначено, що багатошарові плівкові композиції Ni/Ti/Ni/Ti… на Si(001) з товщиною нікелю 3 нм, кремнію - 1,59 нм, 4,77 нм та 9,54 нм не взаємодіють з кремнієм підкладки до температури відпалу 870 К. Вище цієї температури мають місце процеси дифузійної взаємодії шарів та твердотільні реакції з утворенням фаз NiSi, TiSi, Ti4Ni4Si7. NiSi у багатошаровій тонкоплівковій композиції з товщиною нікелю 3 нм, кремнію 1,59 нм термічно стійкий в інтервалі температур 970-1170 К.
7. Визначено вплив термічної обробки у вакуумі в інтервалі температур 470 - 1170 К на оптичні та магнітооптичні властивості матеріалів багатошарових плівкових композицій на монокристалічному кремнії орієнтації (001) Ni/Si/Ni/Si… при різних співвідношеннях кількості речовин Ni та Si: 2:1, 1:1, 1:2), Co/Si/Co/Si… (при співвідношенні кількості речовин Co та Si: 1:2). При дослідженні методом спектральної еліпсометрії багатошарових плівкових композицій Ni/Si/Ni/Si… на Si(001) з товщиною шару нікелю 3 нм, кремнію - 2,6 нм, 5,3 нм и 10,7 нм в осадженому стані, після опромінення іонами аргону та при низькотемпературному відпалі (до 470 К) встановлено, що формуються аморфні області складу, близького до NiSi, а у багатошарових плівкових композиціях Co(3нм)/Si(10,5 нм)/Co(3нм)/Si (10,5 нм) … на Si(001) - області складу, близького до Co2Si. Товщина таких областей для багатошарової плівки з 22 шарами Ni(3 нм)/Si(10,7 нм) на Si(001) складає близько 10 нм.
СПИСОК ОПУБЛІКОВАНИХ АВТОРОМ ПРАЦЬ ЗА ТЕМОЮ ДИСЕРТАЦІЇ
1. Т.И. Вербицкая, И.Е. Котенко, Ю.Н. Макогон, С.И. Сидоренко. Фазообразование в тонкопленочной системе Co/Ni на монокристаллическом кремнии //ИПМ, Тугоплавкие соединения в микроэлектронике, 1996, с.20-23.
Дисертантом досліджені закономірності термічно активованих процесів фазоутворення у тонкоплівковій системі Co/Ni на монокристалічному кремнії за допомогою рентгенофазового та резистометричного методів. Проведено відпал тонкоплівкових систем.
2. Макогон Ю.Н., Павлова Е.П., Сидоренко С.И., Ш.Тайхерт, Т.И. Вербицкая “Влияние условий осаждения на формирование фазового состава пленок Mn в тонкопленочной системе Mn –Si” Металлофизика и новейшие технологии, т.24, № 11,2002, с. 1491-1498.
Здобувачем вивчено вплив умов осадження та термічної обробки на формування фазового складу плівок Mn в тонкоплівковій системі Mn–Si, проведено рентгенофазовий та резистометричний аналізи.
3. С.И. Сидоренко, К-Н. Ту, Ю.Н. Макогон, Е.П. Павлова, Т.И. Вербицкая, Ю.В. Нестеренко “Исследование твердофазных реакций в пленочной системе Ti/Ni на монокристальном кремнии”.- Металлофизика и новейшие технологиии.-2003.- т.25.- № 5.- с. 613-620.
Автором проведено рентгенографічний та резистометричний аналіз. Досліджено твердофазні реакції у плівковій системі Ti/Ni на монокристальному кремнії та інтервали термічної стійкості NiSi .
4. Ю.В. Кудрявцев, С.И. Сидоренко, Ю.М. Макогон, Е.П. Павлова, Т.И. Вербицкая, Й.П. Ли “ Исследование твердофазных реакций в многослойных пленках Ni/Si методом спектральной эллипсометрии.- Металлофизика и новейшие технологии.-2003.-т.25.-№ 7.- с. 867-883.
Здобувачем виконано рентгенографічне та резистометричне дослідження термічно активованих твердофазних реакцій у багатошарових плівках Ni/Si на монокристалах кремнію, проаналізовано експериментально одержані оптичні властивості багатошарових плівок Ni/Si порівняно з модельними.
5. Ю.В. Кудрявцев, С.И. Сидоренко, Ю.М. Макогон, Е.П. Павлова, Т.И. Вербицкая, Й.П. Ли “Исследование твердофазных реакций в многослойных пленках Co/Si на монокристаллическом кремнии методом спектральной эллипсометрии.- Металлофизика и новейшие технологии.- 2004.- т. 26 .- № 8.- с. 1039-1050.
Автором проведено рентгенографічне та резистометричне дослідження термічно активованих твердофазних реакцій у багатошарових плівках Со/Si на монокристалах кремнію. Проаналізовані експериментально одержані оптичні властивості порівняно з модельними.

Завантажити цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12  13  14 



Реферат на тему: ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ

BR.com.ua © 1999-2017 | Реклама на сайті | Умови використання | Зворотній зв'язок