Головна Головна -> Реферати українською -> Дисертації та автореферати -> Українською реферат: ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ

ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ / сторінка 12

Назва:
ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ
Тип:
Реферат
Мова:
Українська
Розмiр:
18,74 KB
Завантажень:
178
Оцінка:
 
поточна оцінка 5.0


Скачати цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12  13  14 

6. S.I. Sidorenko, Yu.N. Makogon, E.P. Pavlova, T.I. Verbitskaya, S. Teichert. Investigation of solid state reactions in the films of Mn-Si system.- Proceedings of the 14th International Simposium “Thin Films in Electronics” (2002), p.108-111.
Здобувачем проведено рентгенофазовий та резистометричний аналіз. Досліджені термічно активовані твердофазні реакції силіцидоутворення в тонкоплівковій системі Mn–Si
7. S.I. Sidorenko, K.N. Tu, Yu. N. Makogon, E.P. Pavlova, A. Csik, T.I. Verbiskaya, Yu.V. Nesterenko “ Solid-state Reactions in Ti/Ni Thin Film System on Silicon Single Crystal”. Proceedings of the International Conference on Diffusion, Segregation and Stresses in Materials. Defect and Diffusion Forum. Vol.216-217 (2003), p. 263-268.
Автором виконано рентгенографічний та резистометричний аналіз. Досліджено термічно активовані твердофазні реакції силіцидоутворення у плівковій системі Ti/Ni на монокристальному кремнії та інтервали існування силіциду нікелю NiSi. Проаналізовано результати просвічуючої електронної мікроскопії поперечних перерізів зразків після різних температур відпалу.
ВЕРБИЦЬКА Т.І. ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ - Рукопис.
Дисертація на здобуття наукового ступеня кандидата технічних наук за фахом 05.16.01 – Металознавство і термічна обробка металів. - Національний технічний університет України “Київський політехнічний інститут”, Київ, 2004.
Дисертація присвячена визначенню закономірностей формування фазового складу й структури внаслідок термічно-активованих твердотільних реакцій та інтервалів термічної стійкості силіциду нікелю NiSi у тонкоплівкових одношарових системах Ni, Co, бішарових системах Co-Ni, Ni-Ti та у багатошарових плівкових нанорозмірних системах Ni/Si/Ni/Si…, Co/Si/Co/Si…, Ni/Tі/Ni/Ti… на монокристалах кремнію.
Процеси фазоутворення було досліджено методами рентгенівського аналізу, резістометрії, хімічного пошарового аналізу, спектральної еліпсометрії, просвічуючої електронної мікроскопії поперечних перерізів. Встановленo закономірності зміни фаз, інтервали термічної стійкості силіциду нікелю NiSi, вплив шару “природного” оксиду кремнію, товщини проміжного шару нікелю та послідовності розташування шару титану на процеси силіцидоутворення. Показана важливість застосування оптичних та магнітооптичних методів для виявлення змін фазового складу та структури в осадженому стані, після іонного опромінення та при низькотемпературному відпалі (до 470 К), що не виявлялись традиційними рентгенівськими методами.
Ключові слова: багатошарові плівки, процеси силіцидоутворення, аморфний стан, фаза, відпал, силіцид, підкладка, структура.
 
ВЕРБИЦКАЯ Т.И. ЗАКОНОМЕРНОСТИ ФАЗООБРАЗОВАНИЯ И ТЕРМИЧЕСКАЯ СТАБИЛЬНОСТЬ СИЛИЦИДА НИКЕЛЯ NiSi В ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛЛАХ КРЕМНИЯ. - Рукопись.
Диссертация на соискание ученой степеня кандидата технических наук по специальности 05.16.01 – Металловедение и термическая обработка металлов. - Национальный технический университет Украины “Киевский политехнический институт”, Киев, 2004.
Диссертация посвящена определению закономерностей формирования фазового состава и структуры вследствие термически активированых твердотельных реакций и интервалов термической стойкости силицида никеля NiSi в тонкопленочных однослойных системах Ni, Co, бислойных системах Co-Ni, Ni-Ti и в многослойных пленочных наноразмерных системах Ni/Si/Ni/Si…, Co/Si/Co/Si…, Ni/Tі/Ni/Ti… на монокристалах кремния.
Слой “естественного” оксида кремния толщиной 6-10 нм существенно замедляет твердотельные реакции силицидообразования в тонкопленочных системах Co(200 нм)/Si, Co(300 нм/Ni(20, 50 нм)/Si, Ni(300 нм)/Co(20 нм)/Si по сравнению с системами Ni(200 нм)/Si и Co(300 нм)/Ni(300 нм)/Si. Выявлено, что ориентация кремниевой подложки в бислойных тонкопленочных системах Co(300 нм)/Ni(300 нм) на монокристаллическом кремнии, как и в однослойных тонкопленочных системах Ni-Si оказывает существенное влияние на процессы силицидообразования.

Завантажити цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12  13  14 



Реферат на тему: ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ

BR.com.ua © 1999-2017 | Реклама на сайті | Умови використання | Зворотній зв'язок