Головна Головна -> Реферати українською -> Дисертації та автореферати -> реферат українською мовою: ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ

ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ / сторінка 13

Назва:
ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ
Тип:
Реферат
Мова:
Українська
Розмiр:
18,74 KB
Завантажень:
178
Оцінка:
 
поточна оцінка 5.0


Скачати цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12  13  14 
Процессы силицидообразования в системе Co(300 нм)/Ni(300 нм)/Si(100) начинаются при 670 К, что на 100 К ниже температуры начала процессов силицидообразования в системе Co(300 нм)/Ni(300 нм) на подложке кремния с ориентацией (111). Дисилицид никеля NiSi2 в тонкопленочной системе Co(300нм)/Ni(300 нм) на монокристаллическом кремнии со слоем “естественного” оксида кремния толщиной 6-10 нм образуется при 870 К, что на 150 К ниже температуры образования дисилицида никеля NiSi2 в системе Ni-Si.
Последовательность твердотельных реакций и начало формирования силицида никеля NiSi в тонкопленочных системах Ti(200 нм)/Ni(200 нм)/Si(001) и Ni(200 нм)/Ti(200нм)/Si(001) зависят от последовательности расположения слоя титана (Ti/Ni/Si(001) или Ni/Ti/Si(001)): при расположении титана сверху никеля NiSi образуется при 670 К. Когда слой титана расположен между никелем и кремнием, NiSi формируется при 870 К. Независимо от последовательности расположения слоя титана, силицид никеля NiSi термически устойчив до 1170 К, что на 150 К выше температуры термической устойчивости NiSi в системе Ni-Si. В системе Ti/Ni/Si(001) титан повышает термическую устойчивость NiSi, связывая никель в интерметаллид и располагаясь по границам зерен, препятствуя зародышеобразованию дисилицида никеля. В тонкопленочной системе Ni/Ti/Si(001) термическая устойчивость силицида никеля NiSi обусловлена образованием тройного соединения Ti4Ni4Si7 в результате интенсивной диффузии атомов кремния в интерметаллидную фазу Ni3Ti. Дисилицид никеля, как конечный продукт реакции образуется в тонкопленочных системах Ti/Ni/Si(001) и Ni/Ti/Si(001) только после отжига 1270 К в течение 1 часа.
Материал многослойных пленочных композиций Ni/Si/Ni/Si… и Co/Si/Co/Si… на монокристаллическом кремнии (001) после осаждения находился в рентгено-аморфном состоянии, кристаллизация происходила после отжига 670 К. При повышении температуры отжига до 1070 К формировались силициды с заданным соотношением металла и кремния (Ni2Si, NiSi, NiSi2, CoSi2).
Исследование оптических и магнитооптических свойств многослойных тонкопленочных композиций Ni/Si/Ni/Si… та Co/Si/Co/Si… на монокристаллическом кремнии (001) методом спектральной элипсометрии позволило выявить стуктурные и фазовые изменения после осаждения, облучения ионами аргона и при низкотемпературном отжиге до 470 К, которые не обнаруживались традиционными рентгеновскими методами исследования. В многослойных пленочных композициях Ni/Si/Ni/Si… на Si(001) в осажденном состоянии, после облучения ионами аргона и при низкотемпературном отжиге до 470 К формируются аморфные области с составом, близким к кристаллическому NiSi, а в многослойных пленочных композициях Co/Si/Co/Si… на Si(001) - области с составом, близким к Co2Si. Толщина таких областей для многослойной пленки c 22 слоями Ni(3 нм)/Si(10,7 нм на монокристаллическом кремнии (001) составляет около 10 нм.
Многослойные тонкопленочные композиции Ni/Ti/Ni/Ti… на монокристаллическом кремнии (001) с толщиной никеля 3 нм, титана- 1,59 нм, 4,77 нм, 9,54 нм не взаимодействуют с кремнием подложки при температурах отжига до 870 К. Выше этой температуры имеют место процессы диффузионного взаимодействия слоев, что приводит к твердотельным реакциям с образованием фаз NiSi, TiSi, Ti4Ni4Si7. Силицид никеля NiSi в многослойной тонкопленочной композиции с толщиной никеля 3 нм, титана 1,59 нм существует в интервале температур 970 – 1170 К.
Ключевые слова: многослойные пленки, процессы силицидообразования, аморфное состояние, фаза, отжиг, силицид, подложка, структура.
VЕRBITSKAYA T.I. PHASE FORMATION REGULARITIES AND THERMAL STABILITY OF THE NICKEL SILICIDE PHASE NiSi IN THIN FILM SYSTEMS Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si ON SILICON MONOCRYSTALS . - Manuscript.
The dissertation is presented in the partialfulfillment of requirements for the candidate’s degree in technical sciences according to the speciality 05.16.01- Metal Studies and Heat treatment of metals, National technical university of Ukraine “KPI”; Kyiv, 2004.
The dissertation is devoted to determination of regularities of phase composition formation and structure as a result of the thermal activated solid state reactions and range of thermal stability of nickel silicide phase NiSi in the thin film onelayer systems Co, Ni, bilayer systems Co-Ni, Ni-Tі and in the multilayer films nanodimension systems Ni/Si/Ni/Si…, Co/Si/Co/Si…, Ni/Tі/Ni/Ti… deposited on to monocrystalline silicon.

Завантажити цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12  13  14 



Реферат на тему: ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ

BR.com.ua © 1999-2017 | Реклама на сайті | Умови використання | Зворотній зв'язок