Головна Головна -> Реферати українською -> Дисертації та автореферати -> Скачати безкоштовно: ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ

ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ / сторінка 7

Назва:
ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ
Тип:
Реферат
Мова:
Українська
Розмiр:
18,74 KB
Завантажень:
178
Оцінка:
 
поточна оцінка 5.0


Скачати цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12  13  14 
1 б). Два шари, один з яких безпосередньо біля кремнієвої підкладки мають приблизно однаковий хімічний склад: для першого шару – 51 ат.% Si та 49 ат. % Ni; для другого шару – 49% Si та 51 ат.% Ni, що відповідає утворенню фази NiSi. Хімічний склад третього шару включає 50 ат.% Si, 28 ат.%Ti, 22 ат. % Ni. Наступний, четвертий шар тонкоплівкової системи Ti(200 нм)/Ni(200 нм)/Si(001) складається з 4 ат.% Si, 53 ат.% Ti, 43 ат.% Ni. Це свідчить про те, що лише незначна кількість кремнію продифундовала в поверхневі шари плівкової системи.
Твердотільні реакції у системі Ti(200 нм)/Ni(200 нм)/Si(001) відбувалися наступним чином:
Ti/Ni/Si(001)Ti+Ni+Ni3Ti+Ni2Si+NiSiTi+Ni3Ti+NiSi
Ni3Ti+NiSi Ni3Ti+NiSi+Ti5Si3 Ni3Ti+NiSi+NiSi2+Ti5Si3
Підвищення температури відпалу до 1070 К супроводжувалось подальшим ростом кількості силіциду нікелю NiSi. Подовження часу відпалу від 1 до 2 годин не змінювало значень електроопору плівки у системі Ti/Ni/Si(001). Це свідчить про термічну стійкість силіциду нікелю NiSi при цих температурах та часу відпалу. Збільшення часу відпалу до 11 годин при температурі 970 К не привело до фазового перетворення NiSi>NіSi2. Атоми титану, розташовуючись по границям зерен силіциду нікелю NiSi чи зв’язуючи нікель в інтерметалід Ni3Ti перешкоджають зародженню та росту NiSi2.
У системі Ni(200нм)/Ti(200нм)/Si(001) в осадженому стані не відбуваються взаємодифузія та твердотільні реакції поміж шарами нікелю та титану. На електронно-мікроскопічному зображенні поперечного перерізу вихідного зразка присутні два чітко означених шари: шар Ti, що примикає до Si, та шар Ni на поверхні (рис. 2 а).
Інтенсивні процеси дифузії починаються після відпалу 670 К. Першою фазою утворюється інтерметалід Ni3Ti. На електронно-мікроскопічному зображенні поперечного перерізу плівки після відпалу 770 К - п’ять чітко означених шарів над підкладкою кремнію (рис. 2 б). Верхнім шар - залишок плівки нікелю, під ним розташувались послідовно інтерметаліди Ni3Ti, Ti2Ni та залишок шару Ti. До підкладки кремнію примикає шар силіциду титану Ti5Si3. Повне перемішування шарів металів супроводжується різким підвищенням електроопору.
Встановлено, що потрійна сполука Ti4Ni4Si7 утворюється після ізотермічного відпалу при температурі 970 К тривалістю 12 годин.
Після відпалу при 970 К тривалістю 18 годин твердотільні реакції пройшли по усьому об?єму плівки. На електронно-мікроскопічному зображенні поперечного перерізу (рис. 2 в) присутні три шари: верхній шар – залишок трійної сполуки Ti4Ni4Si7, до підкладки примикає силіцид нікелю NiSi, між ними розташовано силіциди TiSi та TiSi2. Cиліцид нікелю NiSi у тонкоплівковій системі Ni(200 нм)/Ti(200 нм)/Si(001), як і у тонкоплівковій системі Ti(200 нм)/Ni(200 нм)/Si(001) не перетворюється у дисиліцид NiSi2 до температури відпалу 1170 К. Процеси фазоутворення під впливом термічної обробки у вакуумі в інтервалі температур 470- 1270 К у системі Ni(200 нм)/Ti(200 нм)/Si(001) відбувалися за наступною схемою:
Ni/Ti/Si(001)Ti+Ni+Ni3TiNi+Ni3Ti+ Ti2Ni+Ti5Si3
Ni+Ni3Ti+Ti5Si3+ TiSi+NiSiNi3Ti+NiSi+TiSi
Ti4Ni4Si7+NiSi+TiSiTi4Ni4Si7+ NiSi +NiSi2+TiSi+TiSi2
У системі Ni(200 нм)/Ti(200 нм)/Si(001) термічна стійкість силіциду нікелю NiSi обумовлена утворенням трійної сполуки Ti4Ni4Si7 у результаті інтенсивної дифузії атомів кремнію у інтерметалідну фазу Ni3Ti.
Дисиліцид нікелю, як кінцевий продукт реакції в тонкоплівкових системах Ti/Ni/Si(001) та Ni/Ti/Si(001) утворювався тільки після відпалу 1270 К тривалістю 1 година.
У п’ятому розділі “ЗАКОНОМІРНОСТІ ПРОЦЕСІВ ФАЗОУТВОРЕННЯ У БАГАТОШАРОВИХ НАНОРОЗМІРНИХ СИСТЕМАХ Ni/Si/Ni/Si…, Co/Si/Co/Si…, Ni/Ti/Ni/Ti… НА МОНОКРИСТАЛІЧНОМУ КРЕМНІЇ (001) ТА ЇХ ОПТИЧНІ ТА ЭЛЕКТРОФІЗИЧНІ ВЛАСТИВОСТІ” вивчені закономірності термічно активованих процесів фазоутворення в багатошарових плівкових композиціях Ni/Si/Ni/Si…, Co/Si/Co/Si…, Ni/Ti/Ni/Ti… на монокристалічному кремнії з орієнтацією (001).
У вихідному стані, після опромінення іонами аргону з енергією 80 кэВ і дозою 1,5х 1016 Ar/см2 та після відпалу 470 К матеріал багатошарових плівкових композицій Ni/Si/Ni/Si… на монокристалічному кремнії з орієнтацією (001) знаходиться в дифракційно-аморфному стані (А.

Завантажити цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12  13  14 



Реферат на тему: ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ

BR.com.ua © 1999-2017 | Реклама на сайті | Умови використання | Зворотній зв'язок