Головна Головна -> Реферати українською -> Дисертації та автореферати -> Безкоштовно реферат скачати: ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ

ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ / сторінка 9

Назва:
ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ
Тип:
Реферат
Мова:
Українська
Розмiр:
18,74 KB
Завантажень:
178
Оцінка:
 
поточна оцінка 5.0


Скачати цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12  13  14 
Аналіз оптичних даних дозволив зробити висновок, що у осаджених багатошарових плівках Co/Si/Co/Si… на монокристалічному кремнії з орієнтацією (001) підшари Со використовувались для утворення областей зі складом, близьким до Co2Si.
Дослідження оптичних і магнітооптичних властивостей багатошарових плівкових композицій Ni/Si/Ni/Si… та Co/Si/Co/Si… на монокристалічному кремнії з орієнтацією (001) методом спектральної еліпсометрії дозволили виявити зміни стуктури і фазового складу в осадженому стані, після опромінення іонами аргону з енергією 80 кэВ і дозою 1,5х 1016 Ar/см2 та при відпалі до температури 470 К, що не виявлялись традиційними рентгенівськими методами.
Термічно активовані процеси дифузійного фазоутворення у багатошарових плівкових композиціях Ni/Ti/Ni/Ti… на Si(001) було вивчено методами рентгеностуктурного аналізу та резистометрії. Термообробку проводили у вакуумі 10-3 Па в інтервалі температур 470 – 1170 К тривалістю 1 година. Кристалізація багатошарових плівкових композицій Ni/Ti/Ni/Ti… на монокристалічному кремнії з орієнтацією (001) відбувалася після відпалу 870 К тривалістю 1 година.
Матеріал багатошарових плівок з товщиною шару нікелю 3 нм, кремнію 1,59 нм в вихідному стані знаходився в рентгено-аморфному стані. Після відпалу 870 К утворювався інтерметалід Ni3Ti. Подальший відпал багатошарової плівки з товщиною шару нікелю 3 нм, кремнію 1,59 нм при температурі 970 К тривалістю 1 година супроводжувався утворенням силіциду нікелю NiSi. Потрійна сполука Ti4Ni4Si7 утворювалась після відпалу 1070 К протягом 1 години. Процеси фазоутворення для багатошарової плівкової композиції Ni/Ti/Ni/Ti… на Si(001) з товщиною шару нікелю 3 нм, кремнію 1,59 нм відбувалися наступним чином:
А.С. Ni3Ti Ni3Ti+Ti2Ni+NiSi
Ni3Ti+Ti4Ni4Si7+NiSiTi4Ni4Si7+NiSi+NiSi2
Після відпалу при температурі 1270 К потрійна сполука Ti4Ni4Si7 руйнувалась, що супроводжувалось різким підвищенням поверхневого електроопору.
У багатошарових плівках Ni/Ti/Ni/Ti… на Si(001) з товщиною шару нікелю 3 нм, кремнію 4,77 нм у вихідному стані спостерігався передкристалізаційний стан, про що свідчило наявність2-3 розмитих ліній на рентгенограмі. Твердотільні реакції утворення фаз відбувались наступним чином:
Передкристалізаційнийний стан (Ni3Ti+Ti2Ni)Ni3Ti+Ti2Ni
Ni3Ti +Ti2Ni+ Ti4Ni4Si7NiSi+Ti4Ni4Si7
Ti4Ni4Si7+NiSi2
В багатошаровій плівковій композиції Ni/Ti/Ni/Ti… на Si(001) з товщиною шару нікелю 3 нм, кремнію 9,54 нм відпал 870 К тривалістю 1 година приводив до формування інтерметалідів Ni3Ti и Ti2Ni. Оскільки, в данному випадку, титан знаходився у надлишку по відношенню до нікелю, то після відпалу при 970 К протягом 1 години формувався силіцид титану TiSi, що супроводжувалось різким збільшенням електроопору. Підвищення температури відпалу до 1070 К приводило до утворення інтерметаліду NiTi, який стійкий при цій температурі та невеликої кількості силіциду нікелю NiSi, за рахунок утворення якого знижувався електроопір. Для багатошарової плівки Ni/Ti/Ni/Ti… на Si(001) з товщиною шару нікелю 3 нм, кремнію 9,54 нм силіцидоутворення відбувалось за наступною схемою:
Передкристалізаційний стан (Ni3Ti+Ti2Ni)Ni3Ti+Ti2Ni
Ni3Ti+Ti2Ni+TiSi NiSi+Ti2Ni+TiSi+NiTi
Ni4Si7Ti4+TiSi+TiSi2
Утворення потрійного силіциду Ti4Ni4Si7 у багатошарових плівкових композиціях Ni/Ti/Ni/Ti… на Si(001) з товщиною шару нікелю 3 нм, кремнію 4,77 нм відбувалось при 970 К, що на 200 К нижче температури утворення потрійного силіциду Ti4Ni4Si7 у багатошарових плівкових композиціях Ni/Ti/Ni/Ti … на Si(001) з товщиною шару нікелю 3 нм, кремнію 9,54 нм .
Багатошарові тонкоплівкові композиції Ni/Ti/Ni/Ti… на монокристалічному кремнії (001) (при різних співвідношенннях кількості речовин Ni та Ti: 3:1, 1:1, 1:2) не взаємодіють з кремнієм підкладки до температури відпалу 870 К. Після відпалу при цій температурі тривалістю 1 година багатошарові структури руйнуються. Силіцид нікелю NiSi у багатошаровій тонкоплівковій композиції Ni/Ti/Ni/Ti… на Si(001) з товщиною шару нікелю 3 нм, кремнію 4,77 нм існує у інтервалі температур 970-1170К.

Завантажити цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12  13  14 



Реферат на тему: ЗАКОНОМІРНОСТІ ФАЗОУТВОРЕННЯ ТА ТЕРМІЧНА СТАБІЛЬНІСТЬ СИЛІЦИДУ НІКЕЛЮ NiSi В ТОНКОПЛІВКОВИХ СИСТЕМАХ Co-Ni, Ni-Ті, Ni-Si НА МОНОКРИСТАЛАХ КРЕМНІЮ

BR.com.ua © 1999-2017 | Реклама на сайті | Умови використання | Зворотній зв'язок