Головна Головна -> Реферати українською -> Дисертації та автореферати -> ТВЕРДІ ПЛАНАРНІ ДЖЕРЕЛА ДЛЯ ДИФУЗІЇ БОРУ З АЛЮМОБОРОСИЛІКАТНИХ СПОЛУК

ТВЕРДІ ПЛАНАРНІ ДЖЕРЕЛА ДЛЯ ДИФУЗІЇ БОРУ З АЛЮМОБОРОСИЛІКАТНИХ СПОЛУК

Назва:
ТВЕРДІ ПЛАНАРНІ ДЖЕРЕЛА ДЛЯ ДИФУЗІЇ БОРУ З АЛЮМОБОРОСИЛІКАТНИХ СПОЛУК
Тип:
Реферат
Мова:
Українська
Розмiр:
19,94 KB
Завантажень:
50
Оцінка:
 
поточна оцінка 5.0


Скачати цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12 
Національний університет “Львівська політехніка”
 
Мищишин Володимир Михайлович
УДК 621.315
ТВЕРДІ ПЛАНАРНІ ДЖЕРЕЛА ДЛЯ ДИФУЗІЇ БОРУ
З АЛЮМОБОРОСИЛІКАТНИХ СПОЛУК
05.27.06 - технологія, обладнання та виробництво електронної техніки
Автореферат
дисертації на здобуття наукового ступеня
кандидата технічних наук
Львів – 2005


Дисертацією є рукопис.
Робота виконана на кафедрі напівпровідникової електроніки Національного університету ”Львівська політехніка”.
Науковий керівник: доктор технічних наук, професор
Воронін Валерій Олександрович,
Національний університет ”Львівська політехніка”,
професор кафедри напівпровідникової електроніки
Офіційні опоненти: член-кореспондент НАН України,
доктор фізико-математичних наук, професор
Лисенко Володимир Сергійович,
Інститут фізики напівпровідників НАН України,
завідувач відділу (м.Київ)
доктор технічних наук, старший науковий співробітник
Смеркло Любомир Михайлович,
Львівський науково-дослідний радіотехнічний інститут,
начальник відділу мікроелектроніки
Провідна установа: Науково-виробниче підприємство „Карат”
Міністерства промислової політики України (м.Львів)
Захист дисертації відбудеться “_27 ” _травня 2005 р. о_14 30_год. на засіданні спеціалізованої вченої ради Д 35.052.12 при Національному університеті „Львівська політехніка” (79013, м. Львів, вул. Ст. Бандери,12).
З дисертацією можна ознайомитись у бібліотеці Національного університету „Львівська політехніка” (79013, м. Львів, вул. Професорська, 1).
Автореферат розісланий “_26__” __квітня__ 2005 р.
Учений секретар
спеціалізованої вченої ради _______________ Заячук Д.М.


Загальна характеристика роботи
Актуальність теми. Одним з основних способів одержання напівпровідникових структур є метод дифузії з шарів легуючих оксидів, що формуються на поверхні пластин кремнію різними методами: осадженням з газової фази, низькотемпературним окисненням силану та гідридів легуючих домішок, з плівкоутворюючих розчинних композицій, з використанням твердих планарних джерел, що містять легуючий оксид який виділяють безпосередньо в зоні реакції при температурах дифузії та ін.
Широке розповсюдження, в серійних технологічних процесах набув метод формування боросилікатних плівок на поверхні кремнію з використанням в якості твердих планарних джерел – пластин нітриду бору з окисненою поверхнею. Це дало можливість зменшити розкид параметрів дифузійних шарів на пластинах кремнію, підвищити керованість процесами легування, зменшити їх токсичність та підвищити їх екологічну безпеку. Однак такі джерела в процесі експлуатації вимагають додаткової операції – високотемпературного окиснення, а утворений на їх поверхні шар оксиду бору гігроскопічний, що ускладнює зберігання джерел між технологічними процесами легування та є значним недоліком.
Загальноприйнята технологія виготовлення склокерамічних твердих планарних джерел бору, що містять достатню кількість В2О3 у зв’язаному стані і можуть використовуватись без попереднього окиснення передбачає отримання скла при високих температурах 1800 – 1900оС з наступною його кристалізацією є достатньо складною. Для таких джерел механізм переносу легуючої домішки (В2О3) до поверхні носить дифузійний характер і при тривалих термінах використання не забезпечує стабільний тиск парів оксидів. Крім того, до складу джерел входить велика кількість допоміжних матеріалів що визначають їх дифузійні та термомеханічні параметри.
Дослідження твердих планарних джерел (ТПД) проводились на зразках 25-38 мм. Збільшення діаметру джерел до 102 мм і більше на перше місце поставило експлуатаційні параметри джерел. В цей же час для ТПД майже повністю відсутні дані про механічну міцність, тепло- і термостійкість, нечітко обґрунтовані критерії оцінки терміну експлуатації. Практично відсутні методики вимірювання цих параметрів ТПД, не вивчені питання, що відносяться до впливу геометрії та маси ТПД на їх експлуатаційні характеристики.
Актуальність роботи полягає в тому, що при створенні серії вітчизняних промислових твердих планарних джерел бору для інтервалу температур 850-1150оС були проведені дослідження, які поєднали розробку конструкції твердих планарних джерел, з урахуванням їх наступного використання в процесах виготовлення напівпровідникових приладів і зінтегрованих мікросхем, технологію виготовлення матеріалів для твердих планарних джерел та самих джерел, що мають мінімальний розкид дифузійних і механічних параметрів в умовах тривалої експлуатації, контроль параметрів джерел на всіх стадіях їх виготовлення та використання.

Завантажити цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12 



Реферат на тему: ТВЕРДІ ПЛАНАРНІ ДЖЕРЕЛА ДЛЯ ДИФУЗІЇ БОРУ З АЛЮМОБОРОСИЛІКАТНИХ СПОЛУК

BR.com.ua © 1999-2017 | Реклама на сайті | Умови використання | Зворотній зв'язок