Головна Головна -> Реферати українською -> Дисертації та автореферати -> метакрилові мономери з різноактивними подвійними зв’язками для фоторезистних технологій

метакрилові мономери з різноактивними подвійними зв’язками для фоторезистних технологій

Назва:
метакрилові мономери з різноактивними подвійними зв’язками для фоторезистних технологій
Тип:
Реферат
Мова:
Українська
Розмiр:
19,03 KB
Завантажень:
61
Оцінка:
 
поточна оцінка 5.0


Скачати цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12 
КИЇВСЬКИЙ НАЦІОНАЛЬНИЙ УНІВЕРСИТЕТ
імені ТАРАСА ШЕВЧЕНКА
ГРИЩУК
Людмила Юріївна
УДК 541.64+541.144.8.
метакрилові мономери з різноактивними подвійними
зв’язками для фоторезистних технологій
02.00.06 - хімія високомолекулярних сполук
Автореферат
дисертації на здобуття наукового ступеня
кандидата хімічних наук
Київ – 2003
Дисертацією є рукопис.
Робота виконана на кафедрі хімії високомолекулярних
сполук хімічного факультету Київського національного
університету імені Тараса Шевченка
Науковий керівник: доктор хімічних наук, професор
Сиромятніков Володимир Георгійович,
Київський національний університет імені Тараса Шевченка
професор кафедри хімії високомолекулярних сполук
Офіційні опоненти: доктор хімічних наук
Маслюк Анатолій Федорович,
Інститут біохімії імені А.В. Палладіна
НАН України, головний науковий співробітник
відділу хімії і біохімії ферментів
доктор хімічних наук
Шевченко Валерій Васильович,
Інститут хімії високомолекулярних сполук
НАН України, завідувач відділу сітчастих полімерів
Провідна установа: Національний університет України
“Київський політехнічний
Інститут (м.Київ)
Захист відбудеться ”18” листопада 2003 р. о 14 годині на засіданні
спеціалізованої вченої ради Д 26.001.25 у Київському університеті
імені Тараса Шевченка за адресою:
01033, Київ-33, вул. Володимирська, 60, хімічний факультет,
ауд. 518, тел. (044) 239-33-00.
З дисертацією можна ознайомитися у бібліотеці Київського
національного університету імені Тараса Шевченка за адресою:
Київ, вул. Володимирська, 58.
Автореферат розісланий 17 жовтня 2003 р.
Вчений секретар спеціалізованої вченої ради
Д 26.001.25, доктор хімічних наук ______________ Колендо О.Ю.
ЗАГАЛЬНА ХАРАКТЕРИСТИКА РОБОТИ
Актуальність теми. На сьогодні створення фоторезистних шарів негативного типу для мікроелектроніки залишається важливим напрямком наукових досліджень та головним чином досягається використанням світлочутливих композицій, які складаються з багатьох компонентів, зокрема фотоініціатора або/та сенсибілізатора, плівкоутворюючого полімеру і багатофункціонального мономеру або фотополімеру, барвників і т. д.
Класичним полімерним матеріалом для створення негативних фоторезистів є полівінілциннамат, що на даний час залишається найбільш широко вживаним матеріалом, який синтезують шляхом полімераналогічних перетворень полівінілового спирту. Проте, за рахунок нерегулярного розташування в макроланцюзі циннаматних груп, для такого фоторезисту неможливо досягти регулярної зшивки при фотоопроміненні, а, отже, і високої роздільної здатності. Окрім того, тривале опромінення зшитих циннаматів призводить до їх деструкції і тип резисту з негативного змінюється на позитивний.
Саме тому актуальним є пошук нових класів біфункціональних мономерів з різноактивними подвійними зв’язками, радикальною полімеризацією яких можна одержувати полімерні матеріали, які в кожній ланці в бокових ланцюгах містять подвійний зв?язок, здатний до фотохімічних перетворень. В цьому аспекті, насамперед, великий інтерес представляють мономери малеїмідного та тетрагідрофталімідного типів, висока активність яких в реакціях фотополімеризації та фотодимеризації відома з літератури.
Малеїмідні та тетрагідрофталімідні похідні інтенсивно досліджувалися в умовах термо- та фотоініційованої кополімеризації для створення на їх основі полімерних матеріалів з підвищеною термостійкістю. В якості біфункціонального мономеру був відомий лише малеїмідофенілметакрилат, який знайшов застосування як зшиваючий агент для створення фотополімерних пломб. Малеїмідні похідні з замісниками в імідному циклі, особливо такі як біфункціональні метакрилатні мономери, взагалі залишились поза увагою дослідників.
Зв’язок роботи з науковими програмами, планами, темами. Дисертаційну роботу виконано в рамках держбюджетних тем Кабінету Міністрів України: № 0194U017898 "Дослідження фотоперетворень, деструкції та фотостабілізації в композиційних матеріалах на основі нових класів азидів, інформаційних середовищах та синтетичних полімерах", № U003080 “Модифікація полімерів та їх композитів при використанні сполук з внутрішньомолекулярним переносом енергії і органічних азидів”, теми № “Синтетичні полімерні в`яжучі і протектори та світлочутливі речовини для несрібних фотоматеріалів”, № 0101U002162 "Розробка теоретичних основ макромолекулярного дизайну полімерних матеріалів нової генерації".

Завантажити цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12 



Реферат на тему: метакрилові мономери з різноактивними подвійними зв’язками для фоторезистних технологій

BR.com.ua © 1999-2017 | Реклама на сайті | Умови використання | Зворотній зв'язок