Головна Головна -> Реферати українською -> Дисертації та автореферати -> РЕЛАКСАЦІЙНІ ПРОЦЕСИ В ІОННО-ІМПЛАНТОВАНИХ МОНОКРИСТАЛІЧНИХ ФЕРИТ-ГРАНАТОВИХ ПЛІВКАХ

РЕЛАКСАЦІЙНІ ПРОЦЕСИ В ІОННО-ІМПЛАНТОВАНИХ МОНОКРИСТАЛІЧНИХ ФЕРИТ-ГРАНАТОВИХ ПЛІВКАХ

Назва:
РЕЛАКСАЦІЙНІ ПРОЦЕСИ В ІОННО-ІМПЛАНТОВАНИХ МОНОКРИСТАЛІЧНИХ ФЕРИТ-ГРАНАТОВИХ ПЛІВКАХ
Тип:
Реферат
Мова:
Українська
Розмiр:
19,59 KB
Завантажень:
9
Оцінка:
 
поточна оцінка 5.0


Скачати цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12 
МІНІСТЕРСТВО ОСВІТИ І науки УКРАЇНИ
прикарпатський університет
ІМЕНІ василя стефаника
КОЦЮБИНСЬКИЙ Володимир Олегович
УДК 538.975 .534.9
РЕЛАКСАЦІЙНІ ПРОЦЕСИ
В ІОННО-ІМПЛАНТОВАНИХ МОНОКРИСТАЛІЧНИХ
ФЕРИТ-ГРАНАТОВИХ ПЛІВКАХ
01.04.18– Фізика і хімія поверхні
Автореферат
дисертації на здобуття наукового ступеня
кандидата фізико-математичних наук
Івано-Франківськ - 2002
Дисертацією є рукопис.
Робота виконана у спільній науково-дослідній лабораторії фізики магнітних плівок Прикарпатського університету імені Василя Стефаника МОН України та Інституту металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України.
Науковий керівник: доктор фізико-математичних наук, професор Остафійчук Богдан Костянтинович, завідувач кафедри матеріалознавства і новітніх технологій Прикарпатського університету імені Василя Стефаника, м. Івано-Франківськ
Офіційні опоненти:
доктор фізико-математичних наук, професор Матковський Андрій Орестович, Національний університет “Львівська політехніка”, завідувач кафедри напівпровідникової електроніки, м. Львів
доктор фізико-математичних наук, професор Раренко Іларій Михайлович , Чернівецький національний університет імені Юрія Федьковича, завідувач кафедри напівпровідникової мікроелектроніки, м.Чернівці
Провідна установа:
Інститут фізики напівпровідників НАН України, м. Київ
Захист відбудеться 05.07.2002 р. об  годині на засіданні спеціалізованої вченої ради К 20.051.03 у Прикарпатському університеті імені Василя Стефаника за адресою: 76000, м. Івано-Франківськ, вул. Шевченка, 57, конференц-зала.
З дисертацією можна ознайомитись у науковій бібліотеці Прикарпатського університету імені Василя Стефаника ( 76000, м. Івано-Франківськ, вул. Шевченка, ).
Автореферат розісланий 04.06.2002 року.
Вчений секретар
спеціалізованої вченої ради К 20.051.03
кандидат фізико-математичних наук _______________ Кланічка В.М.
ЗАГАЛЬНА ХАРАКТЕРИСТИКА РОБОТИ
Актуальність роботи. Магнітні матеріали зі структурою гранату знайшли широке застосування у приладах сучасної функціональної електроніки. Сфера їх використання в якості активного середовища включає пристрої на спінових хвилях, що працюють в області надвисоких частот, елементи твердотільних лазерів, прилади магнітооптики, засоби магнітного запису інформації та багато іншого. Широкий спектр можливого практичного використання цих матеріалів зумовлюється наявністю в них трьох взаємопов'язаних високодобротних коливальних підсистем: електромагнітної, магнітної та пружної. Зокрема, епітаксійні монокристалічні плівки залізо-ітрієвого гранату ( ЗІГвирощені на немагнітній підкладці, є одним з найперспективніших матеріалів для обробки сигналів у діапазоні частот 108-1011 Гц. Основними перевагами використання цих структур в НВЧ-пристроях є дуже малі довжини спінових хвиль (від одиниць до сотень мікрон), що дозволяє мініатюризацію НВЧ-елементів та дає можливість керувати параметрами спінових коливань зовнішніми магнітними полями.
Часткове заміщення ітрію і заліза на інші іони у плівках ЗІГ дозволяє отримати матеріали з магнітною анізотропією типу "легка вісь", що зумовлює можливість їх використання в запам'ятовуючих пристроях на циліндричних магнітних доменах (ЦМД).
Іонна імплантація – сучасний, багатоцільовий метод модифікації приповерхневих шарів монокристалів з метою надання їм певних характеристик, відповідно до вимог мікроелектронної техніки. В плівках ЗІГ з неоднорідним приповерхневим шаром збуджуються обмінні спінові хвилі меншої довжини, які поширюються з незначними втратами енергії. В технології ЦМД- матеріалів іонна імплантація використовується для усунення жорстких магнітних доменів та створення каналів їх просування.
Незважаючи на перспективність методу іонної імплантації в технології післяростової обробки ферит-гранатових плівок (ФГП) та значний накопичений експериментальний і теоретичний матеріал, у літературі відсутня цілісна, несуперечлива інформація про перебіг процесу іонного дефектоутворення та релаксації імплантаційно - індукованого напруженого стану в структурі гранату.

Завантажити цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12 



Реферат на тему: РЕЛАКСАЦІЙНІ ПРОЦЕСИ В ІОННО-ІМПЛАНТОВАНИХ МОНОКРИСТАЛІЧНИХ ФЕРИТ-ГРАНАТОВИХ ПЛІВКАХ

BR.com.ua © 1999-2017 | Реклама на сайті | Умови використання | Зворотній зв'язок