Головна Головна -> Реферати українською -> Дисертації та автореферати -> підвищення ефективності електронної технології та обладнання для фінішної обробки оптичних пластин під вироби мікрооптики

підвищення ефективності електронної технології та обладнання для фінішної обробки оптичних пластин під вироби мікрооптики

Назва:
підвищення ефективності електронної технології та обладнання для фінішної обробки оптичних пластин під вироби мікрооптики
Тип:
Реферат
Мова:
Українська
Розмiр:
20,36 KB
Завантажень:
302
Оцінка:
 
поточна оцінка 5.0


Скачати цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12 
НАЦІОНАЛЬНИЙ ТЕХНІЧНИЙ УНІВЕРСИТЕТ УКРАЇНИ
“КИЇВСЬКИЙ ПОЛІТЕХНІЧНИЙ ІНСТИТУТ”
БОНДАРЕНКО МАКСИМ ОЛЕКСІЙОВИЧ
УДК 621.9.048.7
підвищення ефективності електронної технології та обладнання для фінішної обробки оптичних пластин під вироби мікрооптики
05.03.07 – процеси фізико-технічної обробки
Автореферат
дисертації на здобуття наукового ступеня
кандидата технічних наук
Київ – 2006
Дисертацією є рукопис.
Роботу виконано на кафедрі фізики Черкаського державного технологічного університету Міністерства освіти і науки України.
Науковий керівник: | доктор технічних наук, професор Ващенко В‘ячеслав Андрійович, Черкаський державний технологічний університет, завідувач кафедрою фізики
Офіційні опоненти: | доктор технічних наук, професор Котельніков Дмитро Іванович,
Чернігівський державний технологічний університет
кандидат технічних наук, головний конструктор Центрального конструкторського бюро „Сокіл”, заступник генерального директора по науковій роботі НВК „Фотоприлад” Гордієнко Валентин Іванович
Провідна установа: | Національний аерокосмічний університет ім. М.Є.Жуковського “Харківський авіаційний інститут”, кафедра авіаційних приладів та вимірювань
Захист відбудеться „26” червня 2006 р. о 1500 год. на засіданні спеціалізованої вченої ради Д .002.15 при Національному технічному університеті України “Київський політехнічний інститут” за адресою: 03056, м.Київ, просп. Перемоги, 37, корпус 19, ауд. 417
З дисертацією можна ознайомитись у бібліотеці Національного технічного університету України “Київський політехнічний інститут” за адресою: 03056, м.Київ, просп. Перемоги, 37.
Автореферат розісланий “17” травня 2006 р.
Вчений секретар
спеціалізованої вченої ради | Л.Ф. Головко


ЗАГАЛЬНА ХАРАКТЕРИСТИКА РОБОТИ
Актуальність теми. Основний напрямок вдосконалення елементної бази мікрооптики (МО) полягає у створені бездефектних поверхонь та функціональних шарів на оптичних матеріалах з метою подальшого виготовлення на них оптичних елементів мікрометричних розмірів. Це пов‘язано з тим, що розміри оптичних мікроелементів повинні бути одного порядку із розмірами сучасних елементів мікроелектроніки (напівпровідникових випромінювачів та приймачів, пристроїв вводу-виводу в оптичне волокно, елементів зв‘язку, коліматорів). Ефективним може виявитися створення партії оптичних мікроелементів на загальній основі – подібно до технологій створення елементів в мікроелектроніці.
Найпоширенішим матеріалом сучасного оптичного виробництва є оптичне силікатне скло, яке має високу прозорість в оптичному діапазоні та піддатливе до механічного і теплового модифікування поверхні.
За сучасними технологіями оптичного виробництва – глибокого шліфування і полірування, хімічного, хіміко-механічного та полум‘яного промислового полірування неможливо підготувати хімічно і оптично однорідний поверхневий шар (ПШ) на пластині з оптичного силікатного скла з гарантованими середньостатистичними мікронерівностями поверхні меншими 5 нм. Це приводить до втрат і викривлення інформації, яка транслюється через оптичний мікроелемент.
Серед існуючих теплових методів обробки поверхні оптичного силікатного скла (ІЧ-випромінюванням, лазерним променем, електронним потоком), які забезпечують локальну модифікацію мікрорельєфу поверхні і оптичних властивостей виробів, перспективним є метод стрічкової електронної обробки (ЕО), який відноситься до високотемпературних (робоча температура в зоні обробки становить 1500...1600 К) і швидкодіючих (час термічного впливу на матеріал не перевищує одиниць секунд), в результаті застосування якого утворюється поверхня з новими фізико-хімічними та експлуатаційними властивостями.
Разом з тим, високої якості обробки поверхні оптичного скла і повторюваності результатів ЕО неможливо досягти без стабільної роботи інструмента обробки – стрічкового електронного потоку, джерелом якого є дротяний катод електронної гармата (ЕГ) Пірса. За умовами експлуатації (вакуумування – розгерметизації робочого об‘єму) катод періодично контактує з атмосферою, що зумовлює протікання на його поверхні окислювальних процесів.

Завантажити цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11  12 



Реферат на тему: підвищення ефективності електронної технології та обладнання для фінішної обробки оптичних пластин під вироби мікрооптики

BR.com.ua © 1999-2017 | Реклама на сайті | Умови використання | Зворотній зв'язок