Головна Головна -> Реферати українською -> Дисертації та автореферати -> реферат українською: РОЗРОБКА І ДОСЛІДЖЕННЯ ТЕХНОЛОГІЧНОГО ПРОЦЕСУ ТА ОБЛАДНАННЯ ДЛЯ ФОРМУВАННЯ БАГАТОКОМПОНЕНТНИХ ПОКРИТТІВ НА ЛОПАТКИ ГТД

РОЗРОБКА І ДОСЛІДЖЕННЯ ТЕХНОЛОГІЧНОГО ПРОЦЕСУ ТА ОБЛАДНАННЯ ДЛЯ ФОРМУВАННЯ БАГАТОКОМПОНЕНТНИХ ПОКРИТТІВ НА ЛОПАТКИ ГТД / сторінка 5

Назва:
РОЗРОБКА І ДОСЛІДЖЕННЯ ТЕХНОЛОГІЧНОГО ПРОЦЕСУ ТА ОБЛАДНАННЯ ДЛЯ ФОРМУВАННЯ БАГАТОКОМПОНЕНТНИХ ПОКРИТТІВ НА ЛОПАТКИ ГТД
Тип:
Реферат
Мова:
Українська
Розмiр:
17,00 KB
Завантажень:
273
Оцінка:
 
поточна оцінка 5.0


Скачати цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11 

Конфігурація електричного і магнітного поля така, що електрони плазмоутворюючого газу не потрапляють на підкладку, тобто, зменшується густина потоку енергії, що приходить на неї, підкладка знаходиться, в основному, в потоці розпиленого матеріалу, що осідає у вигляді атомів і іонів. Це приводить до зниження температури підкладки, і можливості проводити нанесення покриттів навіть на матеріали, що не допускають істотного нагріву.
При дослідженні отримано вольтамперні характеристики (ВАХ) розряду. При зміні зовнішніх параметрів джерела плазми (магнітної індукції B; анодної напруги Uа і тиску плазмоутворюючого газу P) струм розряду в досліджуваній системі поводиться аналогічно розрядному струму в інших системах зі схрещеними полями.
Визначено потенціал плазми, температура і густина електронів. Ці параметри дозволяють класифікувати досліджувану систему. Вимірювання проведені за допомогою зондових методик діагностики плазми.
При обчисленні густини плазми по іонному струму насичення на зонд (при великих негативних потенціалах зонда щодо плазми) потрібно враховувати повний іонний струм на зонд:
,
де , і - струми іонів аргону, алюмінію і нікелю відповідно.
Були проведені оцінні розрахунки концентрації частинок Ar, Al і Ni. Концентрація іонів аргону більш ніж на три порядки перевищує концентрацію іонів алюмінію. Таким чином, при обчисленні густини плазми по величині іонного струму насичення можна не враховувати багатокомпонентність іонної складової плазми, а припустити, що в плазмі існують тільки іони аргону.
Плавне зниження потенціалу плазми від осі у напрямі кільцевого катода (рис. 2) свідчить про існування радіального електричного поля у всьому об'ємі плазми, що характерне для холловських систем з протяжною зоною прискорення іонів. Характер розподілу температури і густини електронів, а також енергії направленого руху іонів добре узгоджується з результатами досліджень різних моделей прискорювачів з протяжною зоною прискорення іонів.
Результати розрахунків кінетичної енергії радіального руху іонів за даними досліджень радіальних розподілів повної енергії і потенціалу плазми (в припущенні однозарядності іонів) представлені на рис. 3, показують, що енергія направленого руху іонів досягає величини 0.5 eU.
Проведені дослідження інтегральних і локальних параметрів розряду дозволили зробити висновок, що досліджувана система може бути успішно використана для формування багатокомпонентних жаростійких покриттів.
Основними параметрами, що визначають технологічні можливості установки, є: розподіл густини іонного струму і ерозії матеріалу уздовж мішені; вплив величини і знака потенціалу прикладеного до катодів-мішеней на швидкість їх розпилення; залежність швидкості осадження від енергії іонів, що бомбардують підкладку.
Розподіли густини струму уздовж мішені, виконані за допомогою плоского зонду, представлені на рис. 4. Найбільші значення густини струму реєструються з боку мішені зверненій до аноду; розподіл густини іонного струму уздовж катоду-мішені має максимум в серединній площині системи. Це підтверджує електростатичне фокусування іонного пучка.
Значному розпиленню піддається не тільки фронтальна, але і тильна сторона мішеней, що дозволяє реалізувати режим рівномірного осадження продуктів іонного травлення мішеней на поверхнях складної конфігурації.
В досліджуваній системі існує можливість подачі різних по величині і знаку потенціалів до однієї, або до іншої групи катодів-мішеней. Шляхом підбору, затримуючого і замикаючого потенціалів на одній з груп мішеней можна формувати покриття заданого стехіометричного складу.
Отримана залежність швидкості осадження від енергії іонів, що бомбардують підкладку (рис. 5). Максимальна швидкість осадження спостерігалася при енергії іонів аргону ~ 60 еВ, що добре узгоджується, в межах погрішності експерименту, з даними інших авторів.
Проведені дослідження показали, що шляхом зміни потенціалу на підкладці можливі: проведення очищення зразків високоенергетичними іонами Ar+; обробка осідаючого конденсату іонами аргону середньої енергії.

Завантажити цю роботу безкоштовно
Пролистати роботу: 1  2  3  4  5  6  7  8  9  10  11 



Реферат на тему: РОЗРОБКА І ДОСЛІДЖЕННЯ ТЕХНОЛОГІЧНОГО ПРОЦЕСУ ТА ОБЛАДНАННЯ ДЛЯ ФОРМУВАННЯ БАГАТОКОМПОНЕНТНИХ ПОКРИТТІВ НА ЛОПАТКИ ГТД

BR.com.ua © 1999-2017 | Реклама на сайті | Умови використання | Зворотній зв'язок